有机合成装置DDL-2000

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有机合成装置DDL-2000 各反应容器具有独立搅拌功能，可为每个反应容器设定独立搅拌速度条件和温度条件，每个容器可独立进行合成反应。设定值可保存，无需输入试验参数。

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有机合成装置DDL-2000 各反应容器具有独立搅拌功能，可为每个反应容器设定独立搅拌速度条件和温度条件，每个容器可独立进行合成反应。设定值可保存，无需输入试验参数。

有机合成装置DDL-2000

试验管数	各种适配器1~ 5个(最大支持20个)
合成量	0.5~60mL（可变）
搅拌方式	高强磁力搅拌
温度调节范围	-20~160℃ （独立控温）（50~60mL：~130℃）独立温度调节
温度调节精度	±0.5℃
回转速度	300~ 2000rpm 五组独立搅拌
温度设定?显示	薄膜式按键输入设定?数字显示
搅拌设定?显示	旋钮设定?数字显示
气体置换	真空和惰性气体导入（需配特殊容器）
回流	无/回流配置器/分水器（选购）
试药添加方法	吸液管，注射器，滴液漏斗，均可于惰性条件下添加
反应观察	通过铝板观察口
安全功能	漏电过流保护器、温度保险、自我诊断功能（可变式上下限温度、传感器异常）双层保护罩、马达过热保护
磨口尺寸	Φ15/35、Φ14/23
外部尺寸（mm）?重量	370W×331D×323H（顶部）?约19kg

有机合成装置DDL-2000产品特点：

■各反应容器具有独立搅拌功能，可为每个反应容器设定独立搅拌速度条件和温度条件，每个容器可独立进行合成反应。设定值可保存，无需输入试验参数。

■搭载有2段程序功能，可通过2段的温度设定进行合成试验。

■和PPS-5511型相同，通过变更?追加可使得合成规模从0.5?60mL、以及不同规格容器的自由组合。

■通过液晶画面显示铝块温度、反应液温温度、设定值、搅拌速度等。

■具有防止结霜、结露功能。此功能启动时，即使温度控制停止后，铝块温度也能维持在设定温度（0?30℃）。可防止由于冷却水的制冷作用导致的铝块结霜、结露。